离子束刻蚀系统（IBE)

IBE-离子束刻蚀系统是以考夫曼离子源为基础的高效能刻蚀系统。适用于12英寸及以下尺寸的样品刻蚀。刻蚀材料包括金属（如：Au、Pt、Co、Ni、Ta等）、陶瓷材料等.

产品配置：

1.极限真空：度优于6.67*10-5pa；

2.真空测量：薄膜规；

3.样片尺寸：12英寸样品及以下；

4.反应腔室：D型304不锈钢腔体；

5.氩离子源：φ160mm，考夫曼型离子源；

6.载样基台：具备冷却功能；具备旋转功能

7.阀门系统：高真空插板阀；

8.真空系统：700L/s分子泵，机械泵组成；

9.温控系统：循环水冷；

10.气路系统：标配1路进气，高精度流量计；

11.界面操作：触摸屏操作，菜单自动/手动操作；

12.安全控制：异常报警；

13.刻蚀材料：金属等适用性材料（Cu、Au、Ti、Ni、Cr…）；

14.设备尺寸：一体化机型

15.考夫曼离子源：拔出口径φ160mm；双钼栅结构，双阴极灯丝自动切换；0-1mA/cm2连续可调，离子能量50-1000eV