磁控溅射系统（Sputter系列）

等离子化学气相沉积系统（PECVD系列）

原子层沉积系统（ALD)

脉冲激光沉积系统（PLD)

槽式清洗刻蚀（Wet bench）

单片清洗刻蚀（Single wafer）

感应耦合等离子体刻蚀系统（ICPE)

反应离子刻蚀系统（RIE)

离子束刻蚀系统（IBE)